" />

国产成人av人人爽人人澡-亚洲国产日韩欧美一区-好吊日视频这里只有精品-日本高清精品视频在线

你好!歡迎來到深圳市穎特新科技有限公司!
語言
當前位置:首頁 >> 新聞資訊 >> 關于穎特新 >> Tempus DRA 套件加速先進節(jié)點技術時序解決方案
聯系穎特新科技
  • 電話:+86-0755-8259 1179
  • 傳真:+86-0755-8259 1176
  • QQ:2360583608(韋'S)
  • QQ:972369124(喻's)
  • QQ:2824566822(覃'S)

在身處技術驅動的大環(huán)境中,半導體設計需要做到更迅速,更節(jié)能以及更穩(wěn)健。為了滿足這一需求,半導體制造企業(yè)需要不斷突破技術創(chuàng)新。通過對更多參數及其影響的分析,客戶才能實現較現行設計方法更優(yōu)秀的 PPA 目標。例如,全局額定值或全局的裕度會造成性能和功耗的顯著浪費。

image001.png

為了應對類似挑戰(zhàn),Cadence 持續(xù)創(chuàng)新并開發(fā)了 Cadence Tempus 設計穩(wěn)健性分析(DRA)套件,提供解決上述問題所需要的分析能力。該套件采用先進的建模算法,賦能工程師分析,識別并糾正對變化極為敏感的關鍵設計要素,包括適用于模塊級的 Tempus ECO Options 和子系統(tǒng)/全芯片級的 Cadence Certus 收斂解決方案,兩者皆可在 Innovus 設計實現系統(tǒng)中調用。通過充分發(fā)揮套件的高級分析特性,客戶可以強化設計穩(wěn)健性,優(yōu)化功耗、性能和面積(PPA)目標,較傳統(tǒng)基于裕度的方法實現最高達 10% 的 PPA 目標提升。

Tempus DRA 套件

Tempus DRA 套件集合了卓越的分析能力,針對老化效應,電壓降和閾值電壓偏斜等不同類型的時序偏差,解決設計層的穩(wěn)健性問題。該套件包括 5 種高級分析能力,分別適用于穩(wěn)健半導體設計的特定流程。

image003.jpg

1.老化穩(wěn)健性

Tempus DRA 套件以其卓越的老化穩(wěn)健性分析能力在業(yè)界獨樹一幟,PPA 目標最高可提高 10%,適用于汽車、航空航天、消費者電子、移動設備和大規(guī)模計算等領域。該套件允許工程師在 Cadence Liberate Library 表征化流程工具內控制老化表征環(huán)境及參數,提供老化環(huán)境的完整分析結果,并通過統(tǒng)計學圖表直觀呈現應力和恢復狀態(tài)。

與老化感知時序和限制結合,老化穩(wěn)健性可以實現 SPICE 級精度的卓越 PPA 結果。在臺積電 TMI 和其他 SPICE 可靠性模型的支持下,可以跟蹤任意場景下的靜態(tài)時序分析(STA)、實例老化、非統(tǒng)一老化及恢復模型選擇,并且能調節(jié) STA 的最優(yōu)設置。得益于此,老化效應導致的非必要延遲被清除,進一步加速設計收斂。


2.電壓穩(wěn)健性

電壓穩(wěn)健性分析與 Tempus 電源完整性(PI)和 Voltus IC電源完整性解決方案無縫集成,大幅提升了現有的簽核解決方案。該集成采用了新一代(IR)壓降分析和修復技術。電壓穩(wěn)健性分析通過 Tempus ECO Option 實現修復流程的自動化,并通過優(yōu)化 Victim 及 Aggressor 信號路徑解決壓降問題。值得注意的是,該分析可以識別傳統(tǒng) IR 壓降簽核方法容易忽略的時序違例,防止可能導致高昂成本硅片失效的發(fā)生。最大 IR 壓降設計裕度的降低也可以幫助實現更優(yōu)的 PPA 目標。

 

3.時序穩(wěn)健性

時序穩(wěn)健性分析是 Tempus DRA 套件的第三項分析能力。這項強大的能力可以通過對硅片性能的統(tǒng)計學測量而達到時序的準確性,在符合 Sigma 可靠性要求的同時顯著提高設計 PPA。其用戶友好的界面可以加速設計局部更改(ECO)流程,提供相較于傳統(tǒng) SPICE 蒙特卡洛分析更直截了當的方法。

 

4.硅預測

硅預測是 Tempus DRA 套件的第四項分析能力,專注于硅片特性的持續(xù)調優(yōu),可以對硅片的設備模型、庫和目標設備模型提供快速反饋,幫助設計工程師對設計進行快速調整。硅預測支持包括 PBA(物理設計、構建和分析),GBA(全局構建與分析)等設計的各個階段,并在 Tempus 時序解決方案、Tempus ECO Option 和 Innovus 設計實現系統(tǒng)中可用。

設計工程師可以用硅預測功能建立模型與硬件的相關性,獲得理想的硅片性能,并在 Tempus 時序和 Liberate 表征化流程期間實現精準的統(tǒng)計學建模,在硅前靜態(tài)時序分析(STA)簽核時識別離散參數。該分析能力可以賦能設計團隊,助其達成確鑿的收斂和優(yōu)化,利用硅預測預判延遲,并提高 PPA 和良率。

 

5.電壓閾值偏斜穩(wěn)健性

電壓閾值(VT)偏斜穩(wěn)健性是 Tempus DRA 套件的第五項分析能力,用于應對目前 STA 方法固有的時序悲觀。Tempus DRA 套件幫助工程師更靈敏的分析 TT(溫度和電壓)corners,為每個 VT 類型執(zhí)行快速降額以將延遲優(yōu)化至慢 corners 和快 corners(SSG 和 FFG)。設計師可以將庫與 VT 類型捆綁,為每個 VT 類型定義慢和快降額。Tempus DRA 套件可以執(zhí)行優(yōu)化排列,并根據 VT 類型的啟動和捕捉路徑找出最差的松弛變量。

image005.jpg

Tempus DRA 套件是一套高級分析能力的完整合集,致力于增強設計層穩(wěn)健性,對比傳統(tǒng)方法實現更卓越的 PPA 提升。得益于其對老化穩(wěn)健性,電壓穩(wěn)健性,時序穩(wěn)健性,硅預測和 VT 偏斜穩(wěn)健性的專注,該套件可以助力設計團隊在快速迭代的技術環(huán)境下創(chuàng)建更高效,可靠,具有競爭力的半導體解決方案。這是實現新一代半導體設計的關鍵一步。

Tempus DRA 套件是廣泛 Cadence 數字與簽核工作流程的組成部分,支持 Cadence 智能系統(tǒng)設計戰(zhàn)略,助理實現卓越的片上系統(tǒng)(SoC)設計。了解更多 Tempus 時序解決方案的高級分析特性。

作者:Reela(本文翻譯轉載于 Cadence blog)


聯系方式

0755-82591179

傳真:0755-82591176

郵箱:vicky@yingtexin.net

地址:深圳市龍華區(qū)民治街道民治大道973萬眾潤豐創(chuàng)業(yè)園A棟2樓A08

Copyright © 2014-2025 穎特新科技有限公司 All Rights Reserved.  粵ICP備14043402號-4