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EUV 光刻機耗能巨大,3 年后臺積電將吃掉中國臺灣 12% 電力

關鍵字:三星芯片 三星3納米 三星半導體 作者: 來源: 發(fā)布時間:2022-09-01  瀏覽:45

8 月 26 日消息,據彭博社報道,ASML 新一代 EUV 光刻機每臺耗電約 1 百萬瓦,約為前幾代設備的 10 倍,依賴該設備生產芯片的三星、臺積電等芯片制造大廠能源消耗巨大,芯片行業(yè)可能成為減少全球碳排放的重要絆腳石。

報道稱,臺積電擁有業(yè)界最多的 80 臺 EUV 設備,而且正在安裝新一代設備,是吃電大戶,預計 2025 年將占中國臺灣省整體能源消耗的 12.5%,較 2020 年的 6% 高一倍還多。除了臺積電外,美光在中國臺灣也使用至少一種 EUV 設備。彭博分析師 Charles Shum 預估,在 3 年內,臺灣代工廠四分之一的芯片制造都需要 EUV 設備。

IT之家了解到,臺積電生產對于環(huán)境的影響程度,主要取決于發(fā)電來源。業(yè)內人士指出,中國臺灣有許多需要運行如此高耗能設備的芯片廠,使得可再生能源變得重要和緊迫,但臺灣卻嚴重依賴化石燃料。據報道,中國臺灣 2016 年制定一個目標,到了 2025 年,其中 20% 電力來自可再生能源。然而,從 7 月的最新能源審查顯示,截至 2021 年底,只有 6% 電力來自可再生能源,促使其下調 2025 年的目標至 15%。

整體來說,雖然有機會找到用更環(huán)保的方式制造芯片,但沒有任何廠商愿意放慢腳步。

編輯:ZQY  最后修改時間:2022-09-08

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